Единое окно доступа к образовательным ресурсам

Физико-химические основы технологии полупроводников. Пучковые и плазменные процессы в планарной технологии: Учебное пособие

ВУЗ: Санкт-Петербургский государственный политехнический университет Кафедра физики и технологии наноструктур СПбГПУ

Регион РФ:  Санкт-Петербург

Год публикации: 2005

Библиографическая ссылка:: Бобыль А.В., Карманенко С.Ф. Физико-химические основы технологии полупроводников. Пучковые и плазменные процессы в планарной технологии: Учебное пособие. - СПб.: Изд-во Политехн. ун-та, 2005. - 113 с.

Голосов: 0

Пособие соответствует государственному образовательному стандарту по дисциплине "Физико-химические основы технологии полупроводников" для студентов, обучающихся по программе бакалавров по направлению 550100 - "Техническая физика". Рассмотрены основные физико-химические инструменты полупроводниковой технологии - пучковые потоки, низкотемпературная плазма, газофазная эпитаксии. Изучение этих разделов является особенно полезным на начальных этапах участия студентов в реальных условиях научных исследований, как экспериментальных (технологических и материаловедческих), так и теоретических. Предназначено для студентов, обучающихся по специальностям 553101 - "Прикладная физика твердого тела", 553102 "Физика и техника полупроводников", студентам старших курсов и аспирантам, специализирующихся в области технологии и исследования твердого тела. Электронная версия пособия размещена на сайте <a target=_blank href="http://edu.ioffe.ru/PTN/rus/">кафедры физики и технологии наноструктур</a> СПбГПУ.

Отзывы

Только зарегистрированные пользователи могут оставлять отзывы. Уже зарегистрированы?

Яндекс цитирования Яндекс.Метрика